今年7月，北京理工的RIE-PECVD順利安裝驗收。這套設備是Nano-Master極富特色的雙系統(tǒng)設備，一套設備中實現(xiàn)反應離子刻蝕工藝，同時具備等離子增強化學氣相沉積的工藝能力，既避免客戶擔心的交叉污染問題，又為實驗室節(jié)省了寶貴的空間和預算，是大學院校和科研機構(gòu)的熱門選擇。

NANO-MASTER(那諾-馬斯特) PECVD系統(tǒng)能夠沉積高質(zhì)量的SiO2, Si3N4, 或DLC薄膜到zui大可達12” 直徑的基片上,可以通過不同配置實現(xiàn)高速沉積，或控制氮化物薄膜應力，或支持CNT和石墨烯生長。主要型號包含NPE-3000，NPE-3500，和NPE-4000。同時，NANO MASTER(那諾-馬斯特)提供的全自動RIE系統(tǒng)主要用于刻蝕氧化物、氮化物和金屬，可以根據(jù)需要配置ICP實現(xiàn)快速深刻，DRIE系統(tǒng)可用于深硅刻蝕。主要型號包含NRE-3000，NRE-3500，NRE-4000，NDR-4000。 如果用戶同時有RIE和PECVD的需求，我們可以提供雙系統(tǒng)方案以節(jié)省空間和預算。